一、 申請名額及地點：

(一) 名額：2013年補助1-5名（必要時得予從缺）。
(二) 地點：本年度與本館簽約之國外數位藝術機構為：

1. 荷蘭V2_動態媒體藝術中心(V2_Institute for the Unstable Media)：預計配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session)，於2013年7月開始為期約8至10週之駐棧。
2. 加拿大SAT科技藝術中心 (Society for Arts and Technology)：預計於2013年9月開始為期約8至10週之駐棧。

二、 申請對象及條件

(一) 具備中華民國國籍，無兵役或其他法律限制出國者。
(二) 以新媒體藝術類為限(含數位藝術、科技藝術)，至申請截止日前持續創作兩年以上， 且曾舉辦個展、聯展或聯合演出者。
(三) 申請前往V2_者，另須配合V2_夏季駐棧計畫之規範，申請者須為至申請截止日前年齡未滿35歲，或自學校畢業五年以內者。
(四) 具備英語或所駐棧國之語言溝通能力者（如有外語能力檢定證明請於「申請資料表」中填列）。
(五) 具備與本館簽約之國外數位藝術機構所要求之能力，且創作計畫獲該機構審核同意者。

三、 申請及結果公告時間

(一) 申請時間：自 2013年3月1日至4月10日24時止，一律採線上報名。請至｢台灣數位藝術知識與創作流通平台｣網站（http://www.digiarts.org.tw/）進行線上報名程序。資料缺件、逾時或與規定不符者不受理。
(二) 結果公告：預定2013年5月下旬公告評選結果。

＊上述時間如有更動，將公告於國立臺灣美術館網站。

四、 詳細資訊請下載「2013年數位藝術人才國外駐棧創作徵選簡章」。

※說明會時間地點將於近日公告，請密切注意國美館網站及數位方舟facebook專頁。

http://www.ntmofa.gov.tw/chinese/news01_1.aspx?NID=1866

http://www.facebook.com/digi.ark